Evaluation of local strain in Si using UV-Raman spectroscopy: Fid-Bau Portal

Evaluation of local strain in Si using UV-Raman spectroscopy

Ogura, A. / Kosemura, D. / Takei, M. / Uchida, H. / Hattori, N. / Yoshimaru, M. / Mayuzumi, S. / Wakabayashi, H.

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Titel:

Evaluation of local strain in Si using UV-Raman spectroscopy

Beteiligte:

Ogura, A. (Autor:in) / Kosemura, D. (Autor:in) / Takei, M. (Autor:in) / Uchida, H. (Autor:in) / Hattori, N. (Autor:in) / Yoshimaru, M. (Autor:in) / Mayuzumi, S. (Autor:in) / Wakabayashi, H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 159-160 ; 206-211

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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