Role of the MOCVD deposition conditions on physico-chemical properties of tetragonal ZrO2 thin films: Fid-Bau Portal

Role of the MOCVD deposition conditions on physico-chemical properties of tetragonal ZrO2 thin films

Galicka-Fau, K. / Legros, C. / Andrieux, M. / Brunet, M. / Szade, J. / Garry, G.

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Titel:

Role of the MOCVD deposition conditions on physico-chemical properties of tetragonal ZrO2 thin films

Beteiligte:

Galicka-Fau, K. (Autor:in) / Legros, C. (Autor:in) / Andrieux, M. (Autor:in) / Brunet, M. (Autor:in) / Szade, J. (Autor:in) / Garry, G. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 8986-8994

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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