Partial crystallization of silicon by high intensity laser irradiation: Fid-Bau Portal

Partial crystallization of silicon by high intensity laser irradiation

Azuma, H. / Sagisaka, A. / Daido, H. / Ito, I. / Kadoura, H. / Kamiya, N. / Ito, T. / Nishimura, A. / Ma, J. / Mori, M.

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Titel:

Partial crystallization of silicon by high intensity laser irradiation

Beteiligte:

Azuma, H. (Autor:in) / Sagisaka, A. (Autor:in) / Daido, H. (Autor:in) / Ito, I. (Autor:in) / Kadoura, H. (Autor:in) / Kamiya, N. (Autor:in) / Ito, T. (Autor:in) / Nishimura, A. (Autor:in) / Ma, J. (Autor:in) / Mori, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 9783-9786

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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