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    Titel:

    The interface reaction of high-k La2Hf2O7/Si thin film grown by pulsed laser deposition

    Beteiligte:

    Cheng, X. (Autor:in) / Qi, Z. (Autor:in) / Zhang, G. (Autor:in) / Chen, Y. (Autor:in) / Li, T. (Autor:in) / Pan, G. (Autor:in) / Yin, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 838-841

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2009

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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