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    Titel:

    XPS and IPE analysis of HfO~2 band alignment with high-mobility semiconductors

    Beteiligte:

    Perego, M. (Autor:in) / Seguini, G. (Autor:in) / Fanciulli, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 11 ; 221-225

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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