Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    In Situ S-Doping of Cubic Boron Nitride Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

    Neue Suche nach: Yang, H.S.
    Neue Suche nach: Kurebayashi, N.
    Neue Suche nach: Yoshida, T.
    Neue Suche nach: Chandra, T.
    Neue Suche nach: Wanderka, N.
    Neue Suche nach: Reimers, W.
    Neue Suche nach: Ionescu, M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    In Situ S-Doping of Cubic Boron Nitride Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

    Neue Suche nach: Yang, H.S.
    Neue Suche nach: Kurebayashi, N.
    Neue Suche nach: Yoshida, T.
    Neue Suche nach: Chandra, T.
    Neue Suche nach: Wanderka, N.
    Neue Suche nach: Reimers, W.
    Neue Suche nach: Ionescu, M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    In Situ S-Doping of Cubic Boron Nitride Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

    Neue Suche nach: Yang, H.S.
    Neue Suche nach: Kurebayashi, N.
    Neue Suche nach: Yoshida, T.
    Neue Suche nach: Chandra, T.
    Neue Suche nach: Wanderka, N.
    Neue Suche nach: Reimers, W.
    Neue Suche nach: Ionescu, M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    In Situ S-Doping of Cubic Boron Nitride Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

    Beteiligte:

    Yang, H.S. (Autor:in) / Kurebayashi, N. (Autor:in) / Yoshida, T. (Autor:in) / Chandra, T. / Wanderka, N. / Reimers, W. / Ionescu, M.

    Erschienen in:

    THERMEC 2009 Part 3 6th International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS, Berlin, Germany, August 25-29, 2009 ; 2956-2961

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 638/642

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Reduced bias synthesis of cubic boron nitride thin films by magnetically enhanced inductively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

    Chattopadhyay, K. K. / Banerjee, A. N. / Kundoo, S. | British Library Online Contents | 2003

    Laser physico-chemical vapour deposition of cubic boron nitride thin films

    Molian, P. A. | British Library Online Contents | 1994

    Modes of propagating light waves in thin films of boron nitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

    Boudiombo, J. / Baehr, O. / Boudrioua, A. et al. | British Library Online Contents | 1997

    Growth of cubic boron nitride films on tungsten carbide substrates by direct current jet plasma chemical vapor deposition

    Yu, J. / Matsumoto, S. | British Library Online Contents | 2004

    Chemical Vapor Deposition of Highly Conjugated, Transparent Boron Carbon Nitride Thin Films

    Giusto, Paolo / Cruz, Daniel / Heil, Tobias et al. | Wiley | 2021

    Freier Zugriff
    Nach oben