Atomistic study of deposition process of Al thin film on Cu substrate: Fid-Bau Portal

Atomistic study of deposition process of Al thin film on Cu substrate

Cao, Y. / Zhang, J. / Sun, T. / Yan, Y. / Yu, F.

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Titel:

Atomistic study of deposition process of Al thin film on Cu substrate

Beteiligte:

Cao, Y. (Autor:in) / Zhang, J. (Autor:in) / Sun, T. (Autor:in) / Yan, Y. (Autor:in) / Yu, F. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 5993-5997

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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