Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Characterization of single-crystalline In2O3 films deposited on Y-stabilized ZrO2 (100) substrates by MOCVD

    Neue Suche nach: Kong, L.
    Neue Suche nach: Ma, J.
    Neue Suche nach: Yang, F.
    Neue Suche nach: Zhu, Z.
    Neue Suche nach: Luan, C.
    Neue Suche nach: Xiao, H.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Characterization of single-crystalline In2O3 films deposited on Y-stabilized ZrO2 (100) substrates by MOCVD

    Neue Suche nach: Kong, L.
    Neue Suche nach: Ma, J.
    Neue Suche nach: Yang, F.
    Neue Suche nach: Zhu, Z.
    Neue Suche nach: Luan, C.
    Neue Suche nach: Xiao, H.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Characterization of single-crystalline In2O3 films deposited on Y-stabilized ZrO2 (100) substrates by MOCVD

    Neue Suche nach: Kong, L.
    Neue Suche nach: Ma, J.
    Neue Suche nach: Yang, F.
    Neue Suche nach: Zhu, Z.
    Neue Suche nach: Luan, C.
    Neue Suche nach: Xiao, H.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Characterization of single-crystalline In2O3 films deposited on Y-stabilized ZrO2 (100) substrates by MOCVD

    Beteiligte:

    Kong, L. (Autor:in) / Ma, J. (Autor:in) / Yang, F. (Autor:in) / Zhu, Z. (Autor:in) / Luan, C. (Autor:in) / Xiao, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 518-522

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    MOCVD route to In2O3 thin films on SiO2 substrates

    KIM, H. W. / KIM, N. H. / MYUNG, J. H. | British Library Online Contents | 2005

    Characterization of ZrO2 thin films deposited by MOCVD as ceramic coatings

    Torres-Huerta, A. M. / Domínguez-Crespo, M. A. / Onofre-Bustamante, E. et al. | British Library Online Contents | 2012

    Preparation and characterization of single crystalline SnO2 films deposited on α-Al2O3 (0001) by MOCVD

    Feng, X. / Ma, J. / Yang, F. et al. | British Library Online Contents | 2008

    Preparation and characterization of ternary Al–In–O films on Y-stabilized ZrO2 substrates

    Feng, X. / Li, Z. / Zhao, C. et al. | British Library Online Contents | 2015

    β-Ga2O3 epitaxial films deposited on epi-GaN/sapphire (0001) substrates by MOCVD

    Cao, Qiong / He, Linan / Xiao, Hongdi et al. | British Library Online Contents | 2018

    Nach oben