MOCVD route to In2O3 thin films on SiO2 substrates: Fid-Bau Portal

MOCVD route to In2O3 thin films on SiO2 substrates

KIM, H. W. / KIM, N. H. / MYUNG, J. H.

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Titel:

MOCVD route to In2O3 thin films on SiO2 substrates

Beteiligte:

KIM, H. W. (Autor:in) / KIM, N. H. (Autor:in) / MYUNG, J. H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 40 ; 4991-4993

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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