Secondary ion mass spectrometry study of photorefractive-damage-resistant locally Er/Mg-doped near-stoichiometric Ti:Mg:Er:LiNbO~3 strip waveguides: Fid-Bau Portal

Secondary ion mass spectrometry study of photorefractive-damage-resistant locally Er/Mg-doped near-stoichiometric Ti:Mg:Er:LiNbO~3 strip waveguides

Zhang, D.-L. / Hua, P.-R. / Qi, L. / Chen, B. / Pun, E.Y.-B.

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Titel:

Secondary ion mass spectrometry study of photorefractive-damage-resistant locally Er/Mg-doped near-stoichiometric Ti:Mg:Er:LiNbO~3 strip waveguides

Beteiligte:

Zhang, D.-L. (Autor:in) / Hua, P.-R. (Autor:in) / Qi, L. (Autor:in) / Chen, B. (Autor:in) / Pun, E.Y.-B. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 25 ; 1822-1832

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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