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Effect of annealing on the nanoscratch behavior of multilayer Si0.8Ge0.2/Si films

Lian, D.

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Titel:

Effect of annealing on the nanoscratch behavior of multilayer Si0.8Ge0.2/Si films

Beteiligte:

Lian, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 911-916

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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