Effect of annealing temperature for Si0.8Ge0.2 epitaxial thin films: Fid-Bau Portal

Effect of annealing temperature for Si0.8Ge0.2 epitaxial thin films

Chang, Y. M. / Dai, C. L. / Cheng, T. C. / Hsu, C. W.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Effect of annealing temperature for Si0.8Ge0.2 epitaxial thin films

Chang, Y. M. / Dai, C. L. / Cheng, T. C. / Hsu, C. W.

Effect of annealing temperature for Si0.8Ge0.2 epitaxial thin films

Chang, Y. M. / Dai, C. L. / Cheng, T. C. / Hsu, C. W.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Effect of annealing temperature for Si0.8Ge0.2 epitaxial thin films

Beteiligte:

Chang, Y. M. (Autor:in) / Dai, C. L. (Autor:in) / Cheng, T. C. (Autor:in) / Hsu, C. W. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 3105-3109

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

Lian, D. | British Library Online Contents | 2010

Optical properties of Si0.8Ge0.2/Si multiple quantum wells

Shim, K.H. / Kil, Y.-H. / Lee, H.K. et al. | British Library Online Contents | 2011

Growth and annealing temperature dependences of epitaxial ZnO thin films for optoelectronic applications

Shan, F. K. / Liu, G. X. / Lee, W. J. et al. | IEEE | 2006

Metastable Magnetic Epitaxial Thin Films

Willis, R. F. | Springer Verlag | 1988

Antiferroelectric PbSnO₃ Epitaxial Thin Films

Lai, Yu‐Hong / Zheng, Jun‐Ding / Lu, Si‐Cheng et al. | Wiley | 2022

Freier Zugriff

Nach oben