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In situ ellipsometric study of electrodeposition of manganese films on copper

Li, W. / Zhang, S.

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Titel:

In situ ellipsometric study of electrodeposition of manganese films on copper

Beteiligte:

Li, W. (Autor:in) / Zhang, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 3275-3280

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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