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    Titel:

    Oblique Ion Etching for Copper at Elevated Temperature

    Beteiligte:

    Hino, T. (Autor:in) / Kobayashi, T. (Autor:in) / Yamauchi, Y. (Autor:in) / Nobuta, Y. (Autor:in) / Nishikawa, M. (Autor:in) / Mamalis, A.G. / Enokizono, M. / Kladas, A.

    Erschienen in:

    Applied Electromagnetic Engineering for Magnetic, Superconducting and Nanomaterials ; 131-136

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 670

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2011

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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