Design and Fabrication of Novel Photonic Crystal Waveguide Consisting of Si-Ion Implanted SiO~2 Layers: Fid-Bau Portal

Design and Fabrication of Novel Photonic Crystal Waveguide Consisting of Si-Ion Implanted SiO~2 Layers

Umenyi, A.V. / Honmi, M. / Kawashiri, S. / Shinagawa, T. / Miura, K. / Hanaizumi, O. / Yamamoto, S. / Inouye, A. / Yoshikawa, M.

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Titel:

Design and Fabrication of Novel Photonic Crystal Waveguide Consisting of Si-Ion Implanted SiO~2 Layers

Beteiligte:

Umenyi, A.V. (Autor:in) / Honmi, M. (Autor:in) / Kawashiri, S. (Autor:in) / Shinagawa, T. (Autor:in) / Miura, K. (Autor:in) / Hanaizumi, O. (Autor:in) / Yamamoto, S. (Autor:in) / Inouye, A. (Autor:in) / Yoshikawa, M. (Autor:in) / Hanaizumi, O.

Erschienen in:

Silicon Science and Advanced Micro-Device Engineering I ; 168-172

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 459

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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