Composition depth profiles of Bi3.15Nd0.85Ti3O12 thin films studied by X-ray photoelectron spectroscopy: Fid-Bau Portal

Composition depth profiles of Bi3.15Nd0.85Ti3O12 thin films studied by X-ray photoelectron spectroscopy

Zhang, Z. H. / Zhong, X. L. / Liao, H. / Wang, F. / Wang, J. B. / Zhou, Y. C.

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Titel:

Composition depth profiles of Bi3.15Nd0.85Ti3O12 thin films studied by X-ray photoelectron spectroscopy

Beteiligte:

Zhang, Z. H. (Autor:in) / Zhong, X. L. (Autor:in) / Liao, H. (Autor:in) / Wang, F. (Autor:in) / Wang, J. B. (Autor:in) / Zhou, Y. C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 7461-7465

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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