Study on Copper Nitride Thin Films Prepared by Reactive DC Magnetron Sputtering: Fid-Bau Portal

Study on Copper Nitride Thin Films Prepared by Reactive DC Magnetron Sputtering

Li, X.A. / Yang, J.P. / Li, Y.T. / Wang, L.X. / Wang, H.Y.

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Titel:

Study on Copper Nitride Thin Films Prepared by Reactive DC Magnetron Sputtering

Beteiligte:

Li, X.A. (Autor:in) / Yang, J.P. (Autor:in) / Li, Y.T. (Autor:in) / Wang, L.X. (Autor:in) / Wang, H.Y. (Autor:in) / Li, C. / Jiang, C. / Zhong, Z. / Zhou, Y.

Erschienen in:

Functional and Electronic Materials ; 706-710

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 687

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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