Postdeposition Thermal Annealing Influence on the Activation of the Cosputtered AlN-ZnO Films: Fid-Bau Portal

Postdeposition Thermal Annealing Influence on the Activation of the Cosputtered AlN-ZnO Films

Yao, S.L. / Hong, J.D. / Ho, C.Y. / Lee, C.T. / Liu, D.S.

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Titel:

Postdeposition Thermal Annealing Influence on the Activation of the Cosputtered AlN-ZnO Films

Beteiligte:

Yao, S.L. (Autor:in) / Hong, J.D. (Autor:in) / Ho, C.Y. (Autor:in) / Lee, C.T. (Autor:in) / Liu, D.S. (Autor:in) / Li, C. / Jiang, C. / Zhong, Z. / Zhou, Y.

Erschienen in:

Functional and Electronic Materials ; 716-721

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 687

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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