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    Titel:

    Thermal stability and electrical characteristics of NiSi films with electroplated Ni(W) alloy

    Beteiligte:

    Xin, Y. (Autor:in) / Hu, A. (Autor:in) / Li, M. (Autor:in) / Mao, D. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 9351-9354

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2011

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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