Structural, electrical and optical properties of ZnO:AlF3 thin films deposited by RF magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Structural, electrical and optical properties of ZnO:AlF3 thin films deposited by RF magnetron sputtering

Lin, T. C. / Huang, W. C. / Liu, C. H. / Chang, S. C.

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Titel:

Structural, electrical and optical properties of ZnO:AlF3 thin films deposited by RF magnetron sputtering

Beteiligte:

Lin, T. C. (Autor:in) / Huang, W. C. (Autor:in) / Liu, C. H. (Autor:in) / Chang, S. C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 3302-3308

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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