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    Titel:

    The influences of high energetic oxygen negative ions and active oxygen on the microstructure and electrical properties of ZnO:Al films by MF magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Hao, C. (Autor:in) / Xie, B. (Autor:in) / Li, M. (Autor:in) / Wang, H. (Autor:in) / Jiang, Y. (Autor:in) / Song, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 8234-8240

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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