Characterization of delafossite-CuCrO2 thin films prepared by post-annealing using an atmospheric pressure plasma torch: Fid-Bau Portal

Characterization of delafossite-CuCrO2 thin films prepared by post-annealing using an atmospheric pressure plasma torch

Chen, H. Y. / Yang, W. J. / Chang, K. P.

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Titel:

Characterization of delafossite-CuCrO2 thin films prepared by post-annealing using an atmospheric pressure plasma torch

Beteiligte:

Chen, H. Y. (Autor:in) / Yang, W. J. (Autor:in) / Chang, K. P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 8775-8779

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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