Non-equilibrium, Atmospheric-pressure Plasma Jet for Depositing Silicon Oxide Films: Fid-Bau Portal

Non-equilibrium, Atmospheric-pressure Plasma Jet for Depositing Silicon Oxide Films

Lin, J. / Zhang, X.-w. / Han, G.-r.

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Titel:

Non-equilibrium, Atmospheric-pressure Plasma Jet for Depositing Silicon Oxide Films

Beteiligte:

Lin, J. (Autor:in) / Zhang, X.-w. (Autor:in) / Han, G.-r. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -HANGZHOU- ; 30 ; 241-244

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1673-2812

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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