Effect of ultraviolet light exposure to boron doped hydrogenated amorphous silicon oxide thin film: Fid-Bau Portal

Effect of ultraviolet light exposure to boron doped hydrogenated amorphous silicon oxide thin film

Baek, S. / Iftiquar, S. M. / Jang, J. / Lee, S. / Kim, M. / Jung, J. / Park, H. / Park, J. / Kim, Y. / Shin, C.

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Titel:

Effect of ultraviolet light exposure to boron doped hydrogenated amorphous silicon oxide thin film

Beteiligte:

Baek, S. (Autor:in) / Iftiquar, S. M. (Autor:in) / Jang, J. (Autor:in) / Lee, S. (Autor:in) / Kim, M. (Autor:in) / Jung, J. (Autor:in) / Park, H. (Autor:in) / Park, J. (Autor:in) / Kim, Y. (Autor:in) / Shin, C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 260 ; 17-22

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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