Fabrication of Si Mold Using ICP Etching for X-Ray Diffraction Grating: Fid-Bau Portal

Fabrication of Si Mold Using ICP Etching for X-Ray Diffraction Grating

Noda, D. / Tokuoka, A. / Hattori, T.

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Titel:

Fabrication of Si Mold Using ICP Etching for X-Ray Diffraction Grating

Beteiligte:

Noda, D. (Autor:in) / Tokuoka, A. (Autor:in) / Hattori, T. (Autor:in)

Erschienen in:

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 523/524 ; 587-591

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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