High aspect ratio anisotropic silicon etching for x-ray phase contrast imaging grating fabrication: Fid-Bau Portal

High aspect ratio anisotropic silicon etching for x-ray phase contrast imaging grating fabrication

Finnegan, Patrick S. / Hollowell, Andrew E. / Arrington, Christian L. / Dagel, Amber L.

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Titel:

High aspect ratio anisotropic silicon etching for x-ray phase contrast imaging grating fabrication

Beteiligte:

Finnegan, Patrick S. (Autor:in) / Hollowell, Andrew E. (Autor:in) / Arrington, Christian L. (Autor:in) / Dagel, Amber L. (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 92 ; 80-85

Erscheinungsdatum:

01.01.2019

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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