Fabrication of size-tunable, periodic Si nanohole arrays by plasma modified nanosphere lithography and anisotropic wet etching: Fid-Bau Portal

Fabrication of size-tunable, periodic Si nanohole arrays by plasma modified nanosphere lithography and anisotropic wet etching

Cheng, S. L. / Lin, Y. H. / Lee, S. W. / Lee, T. / Chen, H. / Hu, J. C. / Chen, L. T.

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Titel:

Fabrication of size-tunable, periodic Si nanohole arrays by plasma modified nanosphere lithography and anisotropic wet etching

Beteiligte:

Cheng, S. L. (Autor:in) / Lin, Y. H. (Autor:in) / Lee, S. W. (Autor:in) / Lee, T. (Autor:in) / Chen, H. (Autor:in) / Hu, J. C. (Autor:in) / Chen, L. T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 263 ; 430-435

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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