Effect of annealing temperature on the copper nanoparticles deposited on the silicon nanoporous pillar array: Fid-Bau Portal

Effect of annealing temperature on the copper nanoparticles deposited on the silicon nanoporous pillar array

Yang, X. H. / Zeng, F. G. / Li, X. J.

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Titel:

Effect of annealing temperature on the copper nanoparticles deposited on the silicon nanoporous pillar array

Beteiligte:

Yang, X. H. (Autor:in) / Zeng, F. G. (Autor:in) / Li, X. J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 16 ; 10-14

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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