Organic Semiconductors: Dry Lithography of Large-Area, Thin-Film Organic Semiconductors Using Frozen CO2 Resists (Adv. Mater. 46/2012): Fid-Bau Portal

Organic Semiconductors: Dry Lithography of Large-Area, Thin-Film Organic Semiconductors Using Frozen CO2 Resists (Adv. Mater. 46/2012)

Bahlke, M. E. / Mendoza, H. A. / Ashall, D. T. / Yin, A. S. / Baldo, M. A.

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Titel:

Organic Semiconductors: Dry Lithography of Large-Area, Thin-Film Organic Semiconductors Using Frozen CO2 Resists (Adv. Mater. 46/2012)

Beteiligte:

Bahlke, M. E. (Autor:in) / Mendoza, H. A. (Autor:in) / Ashall, D. T. (Autor:in) / Yin, A. S. (Autor:in) / Baldo, M. A. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 24 ; 6116-6116

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

1 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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