Characterization and kinetic investigation of electroless deposition of pure cobalt thin films on silicon substrates: Fid-Bau Portal

Characterization and kinetic investigation of electroless deposition of pure cobalt thin films on silicon substrates

Cheng, S. L. / Hsu, T. L. / Lee, T. / Lee, S. W. / Hu, J. C. / Chen, L. T.

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Titel:

Characterization and kinetic investigation of electroless deposition of pure cobalt thin films on silicon substrates

Beteiligte:

Cheng, S. L. (Autor:in) / Hsu, T. L. (Autor:in) / Lee, T. (Autor:in) / Lee, S. W. (Autor:in) / Hu, J. C. (Autor:in) / Chen, L. T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 264 ; 732-736

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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