Thermoelectric properties optimization of Al-doped ZnO thin films prepared by reactive sputtering Zn-Al alloy target: Fid-Bau Portal

Thermoelectric properties optimization of Al-doped ZnO thin films prepared by reactive sputtering Zn-Al alloy target

Fan, P. / Li, Y. z. / Zheng, Z. h. / Lin, Q. y. / Luo, J. t. / Liang, G. x. / Zhang, M. q. / Chen, M. c.

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Titel:

Thermoelectric properties optimization of Al-doped ZnO thin films prepared by reactive sputtering Zn-Al alloy target

Beteiligte:

Fan, P. (Autor:in) / Li, Y. z. (Autor:in) / Zheng, Z. h. (Autor:in) / Lin, Q. y. (Autor:in) / Luo, J. t. (Autor:in) / Liang, G. x. (Autor:in) / Zhang, M. q. (Autor:in) / Chen, M. c. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 284 ; 145-149

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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