Directed self-assembly of block copolymers for next generation nanolithography: Fid-Bau Portal

Directed self-assembly of block copolymers for next generation nanolithography

Jeong, S. J. / Kim, J. Y. / Kim, B. H. / Moon, H. S. / Kim, S. O.

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Titel:

Directed self-assembly of block copolymers for next generation nanolithography

Beteiligte:

Jeong, S. J. (Autor:in) / Kim, J. Y. (Autor:in) / Kim, B. H. (Autor:in) / Moon, H. S. (Autor:in) / Kim, S. O. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS TODAY -OXFORD THEN KIDLINGTON- ; 16 ; 468-476

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

1369-7021

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11299

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