Current conduction mechanisms in HfO2 and SrHfON thin films prepared by magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Current conduction mechanisms in HfO2 and SrHfON thin films prepared by magnetron sputtering

Feng, L. p. / Li, N. / Tian, H. / Liu, Z. t.

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Titel:

Current conduction mechanisms in HfO2 and SrHfON thin films prepared by magnetron sputtering

Beteiligte:

Feng, L. p. (Autor:in) / Li, N. (Autor:in) / Tian, H. (Autor:in) / Liu, Z. t. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 49 ; 1875-1881

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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