Oxygen-deficient indium tin oxide thin films annealed by atmospheric pressure plasma jets with/without air-quenching: Fid-Bau Portal

Oxygen-deficient indium tin oxide thin films annealed by atmospheric pressure plasma jets with/without air-quenching

Liao, W. Y. / Chang, H. / Yang, Y. J. / Hsu, C. C. / Cheng, I. C. / Chen, J. Z.

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Titel:

Oxygen-deficient indium tin oxide thin films annealed by atmospheric pressure plasma jets with/without air-quenching

Beteiligte:

Liao, W. Y. (Autor:in) / Chang, H. (Autor:in) / Yang, Y. J. (Autor:in) / Hsu, C. C. (Autor:in) / Cheng, I. C. (Autor:in) / Chen, J. Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 292 ; 213-218

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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