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    Titel:

    Structural and photocatalytic study of titanium dioxide films deposited by DC sputtering

    Beteiligte:

    Wang, Z. (Autor:in) / Yao, N. (Autor:in) / Hu, X. (Autor:in) / Shi, X. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 21 ; 91-97

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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