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    Titel:

    High-Speed Deposition of SiC Thick Film by Halide Precursor

    Beteiligte:

    Han, M.X. (Autor:in) / Zhou, W. (Autor:in) / Zheng, D.H. (Autor:in) / Tu, R. (Autor:in) / Zhang, S. (Autor:in) / Goto, T. (Autor:in) / Goto, T. / Fu, Z. / Zhang, L.

    Erschienen in:

    Advanced Ceramics and Novel Processing ; 37-42

    KEY ENGINEERING MATERIALS ; 616

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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