Microcontact-Printing-Assisted Access of Graphitic Carbon Nitride Films with Favorable Textures toward Photoelectrochemical Application: Fid-Bau Portal

Microcontact-Printing-Assisted Access of Graphitic Carbon Nitride Films with Favorable Textures toward Photoelectrochemical Application

Liu, J. / Wang, H. / Chen, Z. P. / Moehwald, H. / Fiechter, S. / van de Krol, R. / Wen, L. / Jiang, L. / Antonietti, M.

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Titel:

Microcontact-Printing-Assisted Access of Graphitic Carbon Nitride Films with Favorable Textures toward Photoelectrochemical Application

Beteiligte:

Liu, J. (Autor:in) / Wang, H. (Autor:in) / Chen, Z. P. (Autor:in) / Moehwald, H. (Autor:in) / Fiechter, S. (Autor:in) / van de Krol, R. (Autor:in) / Wen, L. (Autor:in) / Jiang, L. (Autor:in) / Antonietti, M. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 27 ; 712-718

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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