Influence of rapid-thermal-annealing temperature on properties of rf-sputtered SnOx thin films: Fid-Bau Portal

Influence of rapid-thermal-annealing temperature on properties of rf-sputtered SnOx thin films

Jiang, Y. H. / Chiu, I. C. / Kao, P. K. / He, J. C. / Wu, Y. H. / Yang, Y. J. / Hsu, C. C. / Cheng, I. C. / Chen, J. Z.

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Jiang, Y. H. / Chiu, I. C. / Kao, P. K. / He, J. C. / Wu, Y. H. / Yang, Y. J. / Hsu, C. C. / Cheng, I. C. / Chen, J. Z.

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Titel:

Influence of rapid-thermal-annealing temperature on properties of rf-sputtered SnOx thin films

Beteiligte:

Jiang, Y. H. (Autor:in) / Chiu, I. C. (Autor:in) / Kao, P. K. (Autor:in) / He, J. C. (Autor:in) / Wu, Y. H. (Autor:in) / Yang, Y. J. (Autor:in) / Hsu, C. C. (Autor:in) / Cheng, I. C. (Autor:in) / Chen, J. Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 327 ; 358-363

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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