Ultra-low-κ HFPDB-based periodic mesoporous organosilica film with high mechanical strength for interlayer dielectric: Fid-Bau Portal

Ultra-low-κ HFPDB-based periodic mesoporous organosilica film with high mechanical strength for interlayer dielectric

Zhang, J. / Zhang, G. / Gao, Y. / Sun, R. / Wong, C. P.

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Titel:

Ultra-low-κ HFPDB-based periodic mesoporous organosilica film with high mechanical strength for interlayer dielectric

Beteiligte:

Zhang, J. (Autor:in) / Zhang, G. (Autor:in) / Gao, Y. (Autor:in) / Sun, R. (Autor:in) / Wong, C. P. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 51 ; 7966-7976

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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