Physical and electrical characteristics of NiFe thin films using ultrasonic assisted pulse electrodeposition: Fid-Bau Portal

Physical and electrical characteristics of NiFe thin films using ultrasonic assisted pulse electrodeposition

Asa Deepthi, K. / Balachandran, R. / Ong, B. H. / Tan, K. B. / Wong, H. Y. / Yow, H. K. / Srimala, S.

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Titel:

Physical and electrical characteristics of NiFe thin films using ultrasonic assisted pulse electrodeposition

Beteiligte:

Asa Deepthi, K. (Autor:in) / Balachandran, R. (Autor:in) / Ong, B. H. (Autor:in) / Tan, K. B. (Autor:in) / Wong, H. Y. (Autor:in) / Yow, H. K. (Autor:in) / Srimala, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 360 ; 519-524

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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