Interface engineering of titanium oxide protected a-Si:H/a-Si:H photoelectrodes for light induced water splitting: Fid-Bau Portal

Interface engineering of titanium oxide protected a-Si:H/a-Si:H photoelectrodes for light induced water splitting

Ziegler, J. r. / Yang, F. / Wagner, S. / Kaiser, B. / Jaegermann, W. / Urbain, F. l. / Becker, J. P. / Smirnov, V. / Finger, F.

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Titel:

Interface engineering of titanium oxide protected a-Si:H/a-Si:H photoelectrodes for light induced water splitting

Beteiligte:

Ziegler, J. r. (Autor:in) / Yang, F. (Autor:in) / Wagner, S. (Autor:in) / Kaiser, B. (Autor:in) / Jaegermann, W. (Autor:in) / Urbain, F. l. (Autor:in) / Becker, J. P. (Autor:in) / Smirnov, V. (Autor:in) / Finger, F. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 389 ; 73-79

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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