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    Titel:

    Wet chemical etching of ZnO films using NH x -based (NH4)2CO3 and NH4OH alkaline solution

    Beteiligte:

    Kim, J. K. (Autor:in) / Lee, J. M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 52 ; 13054-13063

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2017

    Format / Umfang:

    10 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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