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    Titel:

    Fracture behavior of single crystal silicon with thermal oxide layer

    Beteiligte:

    Tsuchiya, Toshiyuki (Autor:in) / Miyamoto, Kenji (Autor:in) / Sugano, Koji (Autor:in) / Tabata, Osamu (Autor:in)

    Erschienen in:

    Engineering fracture mechanics ; 163 ; 523-532

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    10 pages

    ISSN:

    0013-7944

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.112605

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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