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a-SiOx:H passivation layers for Cz-Si wafer deposited by hot wire chemical vapor deposition

He, Yuping / Huang, Haibin / Zhou, Lang / Yue, Zhihao / Yuan, Jiren / Zhou, Naigen / Gao, Chao

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Titel:

a-SiOx:H passivation layers for Cz-Si wafer deposited by hot wire chemical vapor deposition

Beteiligte:

He, Yuping (Autor:in) / Huang, Haibin (Autor:in) / Zhou, Lang (Autor:in) / Yue, Zhihao (Autor:in) / Yuan, Jiren (Autor:in) / Zhou, Naigen (Autor:in) / Gao, Chao (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 61 ; 1-4

Erscheinungsdatum:

01.01.2017

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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