Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    193nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns

    Neue Suche nach: Gontad, F.
    Neue Suche nach: Conde, J.C.
    Neue Suche nach: Chiussi, S.
    Neue Suche nach: Serra, C.
    Neue Suche nach: González, P.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    193nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns

    Neue Suche nach: Gontad, F.
    Neue Suche nach: Conde, J.C.
    Neue Suche nach: Chiussi, S.
    Neue Suche nach: Serra, C.
    Neue Suche nach: González, P.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    193nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns

    Neue Suche nach: Gontad, F.
    Neue Suche nach: Conde, J.C.
    Neue Suche nach: Chiussi, S.
    Neue Suche nach: Serra, C.
    Neue Suche nach: González, P.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    193nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns

    Beteiligte:

    Gontad, F. (Autor:in) / Conde, J.C. (Autor:in) / Chiussi, S. (Autor:in) / Serra, C. (Autor:in) / González, P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 362 ; 217-220

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    193nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns

    Gontad, F. / Conde, J.C. / Chiussi, S. et al. | British Library Online Contents | 2016

    Micropatterns: Emerging Applications of Superhydrophilic-Superhydrophobic Micropatterns (Adv. Mater. 9/2013)

    Ueda, E. / Levkin, P. A. | British Library Online Contents | 2013

    High-reflectance 193nm Al2O3/MgF2 mirrors

    Shuzhen, S. / Jianda, S. / Chunyan, L. et al. | British Library Online Contents | 2005

    Comparison of 193nm and 308nm laser liquid printing by shadowgraphy imaging

    Palla-Papavlu, A. / Shaw-Stewart, J. / Mattle, T. et al. | British Library Online Contents | 2013

    Emerging Applications of Superhydrophilic-Superhydrophobic Micropatterns

    Ueda, E. / Levkin, P. A. | British Library Online Contents | 2013

    Nach oben