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    Titel:

    Atomistic modeling of metallic thin films by modified embedded atom method

    Beteiligte:

    Hao, Huali (Autor:in) / Lau, Denvid (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 422 ; 1139-1146

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2017

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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