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    Titel:

    Low temperature solution processed high-κ ZrO2 gate dielectrics for nanoelectonics

    Beteiligte:

    Kumar, Arvind (Autor:in) / Mondal, Sandip (Autor:in) / Rao, K.S.R. Koteswara (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 370 ; 373-379

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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