The influence of atomic layer deposition process temperature on ZnO thin film structure: Fid-Bau Portal

The influence of atomic layer deposition process temperature on ZnO thin film structure

Boryło, P. / Matus, K. / Lukaszkowicz, K. / Kubacki, J. / Balin, K. / Basiaga, M. / Szindler, M. / Mikuła, J.

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Titel:

The influence of atomic layer deposition process temperature on ZnO thin film structure

Beteiligte:

Boryło, P. (Autor:in) / Matus, K. (Autor:in) / Lukaszkowicz, K. (Autor:in) / Kubacki, J. (Autor:in) / Balin, K. (Autor:in) / Basiaga, M. (Autor:in) / Szindler, M. (Autor:in) / Mikuła, J. (Autor:in)

Erschienen in:

Applied surface science ; 474 ; 177-186

Erscheinungsdatum:

01.01.2019

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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