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USE OF SINTERED NANOGRAINED YTTRIUM-BASED CERAMICS AS ETCH CHAMBER COMPONENTS
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for obtaining a good thick film in forming a surface of a plasma resistant part for semiconductor processing from an yttrium material.SOLUTION: A plasma resistant part is created by forming it from a sintered nanocrystalline ceramic material comprising yttrium, oxide, and fluoride. Example parts thus made include windows, edge rings, or injectors. The parts may be yttria co-sintered with alumina, which may be transparent.SELECTED DRAWING: Figure 2
【課題】半導体処理のための耐プラズマ性パーツの表面をイットリウム材料で構成するにあたり、良好な厚膜を得るための装置及び方法を提供する。【解決手段】イットリウム、酸化物、およびフッ化物を含む焼結ナノ結晶セラミック材料で形成することにより耐プラズマ性パーツを作成する。こうして作成されるパーツとして、窓、エッジリングまたは注入器が挙げられる。パーツは、アルミナと共焼結されるイットリアであってよく、これは、透明でありえる。【選択図】図２
USE OF SINTERED NANOGRAINED YTTRIUM-BASED CERAMICS AS ETCH CHAMBER COMPONENTS
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for obtaining a good thick film in forming a surface of a plasma resistant part for semiconductor processing from an yttrium material.SOLUTION: A plasma resistant part is created by forming it from a sintered nanocrystalline ceramic material comprising yttrium, oxide, and fluoride. Example parts thus made include windows, edge rings, or injectors. The parts may be yttria co-sintered with alumina, which may be transparent.SELECTED DRAWING: Figure 2
【課題】半導体処理のための耐プラズマ性パーツの表面をイットリウム材料で構成するにあたり、良好な厚膜を得るための装置及び方法を提供する。【解決手段】イットリウム、酸化物、およびフッ化物を含む焼結ナノ結晶セラミック材料で形成することにより耐プラズマ性パーツを作成する。こうして作成されるパーツとして、窓、エッジリングまたは注入器が挙げられる。パーツは、アルミナと共焼結されるイットリアであってよく、これは、透明でありえる。【選択図】図２
USE OF SINTERED NANOGRAINED YTTRIUM-BASED CERAMICS AS ETCH CHAMBER COMPONENTS
エッチングチャンバ部材としての、焼結ナノ結晶粒化イットリウムをベースとしたセラミックの使用
ZHOU LIN (Autor:in) / SHIH HONG (Autor:in) / JOHN DAUGHERTY (Autor:in) / SATISH SRINIVASAN (Autor:in) / LI SI-WEN (Autor:in)
02.02.2017
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
USE OF SINTERED NANOGRAINED YTTRIUM-BASED CERAMICS AS ETCH CHAMBER COMPONENTS
| Europäisches Patentamt | 2017
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