Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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RECHARGE METHOD
To provide a recharge method that makes it possible to preferably maintain water pouring performance of a water pouring well for a long time and enables efficient and effective operation.SOLUTION: A recharge method includes: by a filtering device 11, filtering object water W1 to remove an insoluble substance in the object water W1; and pouring object water W2 obtained after processing of removing the insoluble substance, from a water pouring well 4 into the underground. The object water W2 obtained after processing of removing the insoluble substance is made to be poured into the water pouring well at a constant frow rate.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】注水井戸の注水性能を長期にわたって好適に維持することを可能にし、効率的且つ効果的な運転を可能にするリチャージ工法を提供する。【解決手段】対象水Ｗ１をろ過装置１１でろ過して対象水Ｗ１中の不溶性物質を除去し、不溶性物質を除去処理した後の対象水Ｗ２を注水井戸４から地中に注水するリチャージ工法であって、不溶性物質を除去処理した後の対象水Ｗ２を一定流量で注水井戸に注水するようにした。【選択図】図１
RECHARGE METHOD
To provide a recharge method that makes it possible to preferably maintain water pouring performance of a water pouring well for a long time and enables efficient and effective operation.SOLUTION: A recharge method includes: by a filtering device 11, filtering object water W1 to remove an insoluble substance in the object water W1; and pouring object water W2 obtained after processing of removing the insoluble substance, from a water pouring well 4 into the underground. The object water W2 obtained after processing of removing the insoluble substance is made to be poured into the water pouring well at a constant frow rate.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】注水井戸の注水性能を長期にわたって好適に維持することを可能にし、効率的且つ効果的な運転を可能にするリチャージ工法を提供する。【解決手段】対象水Ｗ１をろ過装置１１でろ過して対象水Ｗ１中の不溶性物質を除去し、不溶性物質を除去処理した後の対象水Ｗ２を注水井戸４から地中に注水するリチャージ工法であって、不溶性物質を除去処理した後の対象水Ｗ２を一定流量で注水井戸に注水するようにした。【選択図】図１
RECHARGE METHOD
リチャージ工法
ISHIKAWA AKIRA (Autor:in) / SERIZAWA SADAMI (Autor:in) / TAZAKI MASAHARU (Autor:in) / HAYASHI HIDEHIKO (Autor:in) / NIGIRIKAWA NAOHIRO (Autor:in)
13.12.2018
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
IPC:
E02D
FOUNDATIONS
,
Gründungen